1200度单温区管式炉

时间： 2025-01-06
单温区管式炉..

超声波雾化单温区立式管式炉

时间： 2025-01-06
超声波雾化单温区立式管式炉为实验室用小型立式管式电阻炉，..

1200℃立式管式超声雾化及静电收集系统

时间： 2025-01-06
此款仪器有三个主要模块组成：超声雾化装置、1200℃三温区立式管式炉和静电收集装置组成。材料制作大概分为三个步骤：前驱体雾化、加热和纳米颗粒收集。纳米粉收集可有效地收集由流动气体带过来的纳米颗粒。..

1700℃可开启立式三温区管式炉

时间： 2025-01-06
1700℃可开启立式三温区管式炉为实验室用高温管式电阻炉，炉体垂直安装在可移动支架上便于移动。 该高温管式炉加热元件硅钼棒采用水平布置，可通过多温区控制回路的方式对温场进行高灵活度的改造，可实现不同温度梯..

高温升降炉

时间： 2025-01-04
高温升降炉..

1200℃下装载式箱式炉

时间： 2025-01-04
下装载式箱式炉可应用于材料的热处理、烧结、熔炼等工艺。..

下装载气氛箱式炉

时间： 2025-01-04
下装载气氛箱式炉底部装载样品，可装载样品重量为100Kg。..

高温真空管式炉工作原理

时间： 2025-01-04
高温真空管式炉是一种特殊的加热炉，它通过创造高洁净腔体和提供清洁无杂质的高真空状态，使得加热温度均匀且能够控制。这种炉子特别适用于半导体器件或其他对环境要求高的材料的退火工艺。工作原理：采用石英管或刚..

1200度管式实验炉

时间： 2025-01-04
1200度管式实验炉..

实验室真空熔炼炉

时间： 2025-01-04
实验室真空熔炼炉..

智能Plasma增强CVD系统

时间： 2025-01-04
智能Plasma增强CVD系统..

PECVD系统

时间： 2025-01-04
高真空PECVD系统..

PECVD系统

时间： 2025-01-04
小型PECVD系统 ..

化学气相沉积系统

时间： 2025-01-04
PECVD等离子体增强化学气相沉积系统..

CVD气相沉积系统

时间： 2025-01-03
二硫化钼CVD气相沉积系统 ..

1200度高温箱式马弗炉

时间： 2025-01-03
该款高温箱式马弗炉以电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构，双层炉壳间配有风冷循环系统和30段程序控温，K型热电偶测温，炉膛采用氧化铝微晶体纤维材料，温度能达到1200℃，可连续工作1100℃，控温精度±1℃；该炉具..

1200度小型管式气氛炉

时间： 2025-01-03
1200度小型管式气氛炉..

1200度开启式管式气氛炉

时间： 2025-01-03
1200度开启式管式气氛炉为开启式管式电炉..

1200度一体化箱式电阻炉

时间： 2025-01-03
一体化箱式电阻炉..

1200度箱式电阻烧结炉

时间： 2025-01-03
箱式电阻烧结炉..