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高真空PECVD系统是由管式炉，真空系统、供气系统、射频电源系统等组成。系统主要应用于金属薄膜，陶瓷薄膜等，复合薄膜，石墨烯等生长。PECVD系统增加功能容易，可扩展等离子清洗刻蚀等功能，PECVD系统薄膜沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高等优点。
高真空PECVD系统能在石英管式炉内完成CVD乃至PECVD生长，又能直接将产成的晶体样品送入STM等分析装置进行测量，大幅提升样品品质，有效地提高了科研能力。
定期检查电炉及控制器各接头的连接是否良好。电炉和控制器必须在相对湿度不超过85%，没有导电尘埃，爆炸性气体和能破坏金属缘以及电子元件的腐蚀性气体的场..
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