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高真空PECVD系统是由管式炉，真空系统、供气系统、射频电源系统等组成。系统主要应用于金属薄膜，陶瓷薄膜等，复合薄膜，石墨烯等生长。PECVD系统增加功能容易，可扩展等离子清洗刻蚀等功能，PECVD系统薄膜沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高等优点。
高真空PECVD系统能在石英管式炉内完成CVD乃至PECVD生长，又能直接将产成的晶体样品送入STM等分析装置进行测量，大幅提升样品品质，有效地提高了科研能力。
马弗炉分类有好几种，按照温度分类可分为：低温马弗炉、中温马弗炉、高温马弗炉按照外形分类可分为：箱式电阻炉，管式电阻炉，井式电阻炉，坩埚炉等等用途范..
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高温电炉按温度可分为：1000度高温电炉、1200度高温电炉、1400度高温电炉、1600度高温电炉、1700度高温电炉、度高温电炉、度高温电炉、度高温电炉、度高温电..
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多列人工智能箱式电阻炉一、烧结性能1、炉膛尺寸(mm)：宽100*深100*高100（1L）*42、最高温度：1000℃3、温度稳定性: ±1℃4、升温速度：0-30℃ 分钟自由..
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一、烧结性能1、炉膛尺寸(mm)：宽180*深230*高150（6L）2、最高温度：1000℃3、温度稳定性: ±1℃4、升温速度：0-30℃ 分钟自由设定。炉膛材料：采用轻质..
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箱式炉、管式炉、坩埚炉，高温马弗炉..
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旋转管式炉可用于粉末物料的烧结。旋转管式炉可实现炉体倾斜，炉腔加热达到目标温度，然后将物料从工作管高的一端连续放入，物料穿过加热管的加热区，从低端..
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