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高真空PECVD系统是由管式炉，真空系统、供气系统、射频电源系统等组成。系统主要应用于金属薄膜，陶瓷薄膜等，复合薄膜，石墨烯等生长。PECVD系统增加功能容易，可扩展等离子清洗刻蚀等功能，PECVD系统薄膜沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高等优点。
高真空PECVD系统能在石英管式炉内完成CVD乃至PECVD生长，又能直接将产成的晶体样品送入STM等分析装置进行测量，大幅提升样品品质，有效地提高了科研能力。
旋转管式炉简介 旋转管式炉又称回转管式炉，旋转管式炉的炉管通过电机驱动实现360°正反转，让内部的粉状或颗粒状样品能够充分均匀地与气氛反应和烧结。..
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高温马弗炉降温需要多久？ 这个要看马弗炉炉体的保温性能。陶瓷纤维高温马弗炉要比普通马弗炉降低要慢。因为陶瓷纤维高温马弗炉保温效果非常好，所以保温..
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