智能Plasma增强CVD系统
智能Plasma增强CVD系统
该款设备是智能型Plasma增强CVD系统(PECVD),连续可控温度以及Plasma强度等,配备真空系统,可以低压条件下实现工艺,PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区,辉光相对均匀等效,很好的解决了传统等离子工作不稳定状态。
本系统借助于辉光放电产生等离子体,辉光放电等离子体中,电子密度高,通过反应气态放电,有效利用了非平衡等离子体的反应特征,从根本上改变了反应体系的能量供给方式。
智能Plasma增强CVD系统
该款设备是智能型Plasma增强CVD系统(PECVD),连续可控温度以及Plasma强度等,配备真空系统,可以低压条件下实现工艺,PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区,辉光相对均匀等效,很好的解决了传统等离子工作不稳定状态。
本系统借助于辉光放电产生等离子体,辉光放电等离子体中,电子密度高,通过反应气态放电,有效利用了非平衡等离子体的反应特征,从根本上改变了反应体系的能量供给方式。
马弗炉分类有好几种,按照温度分类可分为:低温马弗炉、中温马弗炉、高温马弗炉按照外形分类可分为:箱式电阻炉,管式电阻炉,井式电阻炉,坩埚炉等等用途范..
详细了解
高温电炉按温度可分为:1000度高温电炉、1200度高温电炉、1400度高温电炉、1600度高温电炉、1700度高温电炉、度高温电炉、度高温电炉、度高温电炉、度高温电..
详细了解
多列人工智能箱式电阻炉一、烧结性能1、炉膛尺寸(mm):宽100*深100*高100(1L)*42、最高温度:1000℃3、温度稳定性: ±1℃4、升温速度:0-30℃ 分钟自由..
详细了解
一、烧结性能1、炉膛尺寸(mm):宽180*深230*高150(6L)2、最高温度:1000℃3、温度稳定性: ±1℃4、升温速度:0-30℃ 分钟自由设定。炉膛材料:采用轻质..
详细了解
箱式炉、管式炉、坩埚炉,高温马弗炉..
详细了解
旋转管式炉可用于粉末物料的烧结。旋转管式炉可实现炉体倾斜,炉腔加热达到目标温度,然后将物料从工作管高的一端连续放入,物料穿过加热管的加热区,从低端..
详细了解


