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智能Plasma增强CVD系统
该款设备是智能型Plasma增强CVD系统（PECVD），连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以低压条件下实现工艺，PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光相对均匀等效，很好的解决了传统等离子工作不稳定状态。
本系统借助于辉光放电产生等离子体，辉光放电等离子体中，电子密度高，通过反应气态放电，有效利用了非平衡等离子体的反应特征，从根本上改变了反应体系的能量供给方式。
旋转管式炉简介 旋转管式炉又称回转管式炉，旋转管式炉的炉管通过电机驱动实现360°正反转，让内部的粉状或颗粒状样品能够充分均匀地与气氛反应和烧结。..
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高温马弗炉降温需要多久？ 这个要看马弗炉炉体的保温性能。陶瓷纤维高温马弗炉要比普通马弗炉降低要慢。因为陶瓷纤维高温马弗炉保温效果非常好，所以保温..
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