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智能Plasma增强CVD系统
该款设备是智能型Plasma增强CVD系统（PECVD），连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以低压条件下实现工艺，PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光相对均匀等效，很好的解决了传统等离子工作不稳定状态。
本系统借助于辉光放电产生等离子体，辉光放电等离子体中，电子密度高，通过反应气态放电，有效利用了非平衡等离子体的反应特征，从根本上改变了反应体系的能量供给方式。
定期检查电炉及控制器各接头的连接是否良好。电炉和控制器必须在相对湿度不超过85%，没有导电尘埃，爆炸性气体和能破坏金属缘以及电子元件的腐蚀性气体的场..
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