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热门关键词: 化学气相沉积系统 化学气相沉积系统 小型锂电池材料烧结设备 小型真空钎焊炉 小型负极材料烧结炉 搅拌马弗炉 真空气氛搅拌炉

1200度实验用小型PECVD系统:等离子体增强化学气相沉积系统化学气相沉积系统
  • 1200度实验用小型PECVD系统:等离子体增强化学气相沉积系统化学气相沉积系统

1200度实验用小型PECVD系统:等离子体增强化学气相沉积系统

  • 厂家:
  • 别称:化学气相沉积系统
  • 温度:℃
  • 规格:卧式、立式
  • 类型:高温管式炉
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    什么是PECVD系统?

    PECVD系统由管式炉,石英真空管、真空系统、供气系统、射频电源系统等组成。 PECVD 系统主要应用于金属薄膜,陶瓷薄膜等,复合薄膜,石墨烯等生长。 洛阳西格马可生产1200度实验用小型PECVD、1200度实验用双温区管式炉小型PECVD、低真空CVD系统、等离子增强化学气相沉积系统。

    PECVD系统与CVD有什么区别?

    气相沉积法化学气相沉积(CVD)是半导体工业中应用设计为广泛的用来沉积多种材 料的技术, 包括大范 围的绝缘材料,大多数金属材料和金属合金材料。

    CVD 技术常常通过反应类型或者压力来分类,包括低压 CVD(LPCVD),常压 CVD(APCVD),亚常压 CVD(SACVD),超高真空 CVD(UHCVD),等离子体增强 CVD(PECVD),高密度等离子体 CVD(HDPCVD) 以及快热 CVD(RTCVD)。

    PECVD:是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD).

    PVD和热锚点CVD相比,PECVD可以在相对较低的温度(小于350℃)下沉积出高均匀性薄膜。此外,对于SiO2, SiNx, a-Si, SiON 和 DLC等材料的沉积,等离子沉积技术提供了秀的薄膜性能控制(折射率、硬度等)。

    1200度实验用小型PECVD系统用途

    1200度实验用小型PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。

    1200度实验用小型PECVD系统系统配置;

    1、1200度开启式滑动单温区真空管式炉

    2、等离子射频电源

    3、多路质量流量控制系统

    4、真空系统(单购买)

    1200度实验用小型PECVD系统特性:

    可实现手动滑动或自动滑动、气路数量2-5可选择;温度范围宽;溅射区域长;整管可调;精致小巧,性价比高,可实现快速升降温,是实验室生长薄膜石墨烯,陶瓷薄膜,金属薄膜,复合薄膜等的不错的选择,也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。

    1200度实验用小型PECVD系统主要参数:

    系统名称

    SGM 集成型PECVD系统

    SGM 1200℃小型PECVD系统

    系统型号

    SGM PECVD-12IH-500A

    SGM PECVD-12IH-4Z/G

    控制方式

    液晶屏微PLC控制系统

    手动

    额定温度

    1200℃(可选1300℃、1400℃、1700℃等

    加热区长度

    200mm(可按需定制)

    恒温区长度

    100mm(可按需定制

    温区

    单温区(可生产双温区、三温区)


    炉管材质
     
    石英管

    石英管管径

    Φ60mm

    Φ50mm

    额定功率

    1.2Kw

    2Kw

    额定电压

    220V

    滑动方式及距离

    自动滑动;200mm

    手动滑动;200mm

    温度控制

    30段程序控温

    50段程序控温

    控制精度

    ±1℃

    炉管工作温度

    <1200℃

    气路法兰

    采用多环密封技术卡箍快速连接

    排风冷却装置

    先进的空气隔热技术,结合热感应技术,当炉体表面温升到50℃时,

    排温风扇将自动启动,使炉体表面快速降温。

    气体控制方式

    质量流量计(按键式)

    气路数量

    2路(2-4路)

    4路(可根据具体需要选配气路数量)

    流量范围

    0-500sccm(标准毫升/分,可选配)氮气标定

    精度

    ±1%F.S

    响应时间

    1sec

    工作温度
    (流量计)

    20-120℃

    工作压力

    进气压力0.05-0.3Mpa(表压力)

    进气方式

    采用防倒流设计

    规格

    中真空(集成型请单购买)

    系统真空范围

    10Pa-100Pa

    真空泵

    双级机械泵理论极限真空度3x10-1Pa,抽气速率4L/S(选配:其他抽速真空泵),出气口配有油污过滤器,额定电压220V,功率0.55Kw

    信号频率

    13.56MHz±0.005%

    功率输出范围

    0W-500W

    0W-100W

    反射功率

    350W

    30W

    射频输出接口

    50Ω,N-type,temale

    功率稳定度

    ±0.1%

    谐波分量

    ≤-50dbc

    供电电压

    单相交流(187V-253V)频率50/60HZ

    整机功率

    ≥70%

    屏幕显示

    正方向功率,匹配器电容位置,偏置电压值

    炉体外形尺寸
    (仅参考)

    290×360×350mm

    290×350×490mm

    系统外形尺寸
    (仅参考)

    420×1440×1100mm

    530×2310×750mm

    系统总重量

    大约276Kg


     

     

     

     


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