作为专业的cvd生产厂家，洛阳西格高温电炉有限公司可生产cvd设备、cvd气相沉积设备、cvd工艺设备。

CVD系统是什么？

CVD是化学气相沉积的英文简写，西格马生产的CVD系统是利用管式炉加热，把构成固态沉积物的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入炉管内，在炉管内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术。

CVD系统分类：

CVD技术常常通过反应类型或者压力来分类，包括低压CVD(LPCVD)，常压CVD(APCVD)，亚常压CVD(SACVD)，超高真空CVD(UHCVD)，等离子体增强CVD(PECVD)，高密度等离子体CVD(HDPCVD)以及快热CVD(RTCVD)。然后，还有金属有机物CVD(MOCVD)，根据金属源的自特性来保证它的分类，这些金属的典型状态是液态，在导入容器之前必须先将它气化。

CVD系统组成：

CVD系统=管式炉+真空抽气系统+多路供气系统（或者液态蒸发系统）

CVD系统设备由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产，CVD成长系统是利用气态化合物或化合物的混合物在基体受热面上发生化学反应，从而在基体表面上生成不挥发涂层的一种薄膜材料制备系统。

CVD系统做什么用的？

CVD系统该可供企业实验室，大专院校，科研院所等单位选用，设备为用户提供具体真空、可控气氛及高温的实验环境，应用在半导体，纳米技术，碳纤维等新材料新工艺领域。

 CVD系统设备除了主要应用在碳纳米材料制备行业外，现在正在使用在许多行业，包括纳米电子学、半导体、光电工程的研发、涂料等领域 。

西格马CVD系统用途：

西格马CVD系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控

生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结真空淬火退火，快速降温等工艺实验。

CVD系统产品组成：

配置：

1、1200度开启式真空管式炉（可选配多温区:单温区、双温区、三温区）。

2、滑动系统分为手动、电动滑动，并配有风冷系统。

3、多路质量流量控制系统（多路浮子流量计控制供气系统、多路质子流量计控制供气系统）

4、真空系统（可选配中真空或高真空）    

 产品特点：

1 、控制电路选用模糊PID程控技术，该技术控温精度高，热惯性小，温度不过冲，性能可靠，操作简单。

2、 气路快速连接法兰结构采用本公司有的知识产权设计,提高操作便捷性。

3、 中真空系统具有真空度上下限自动控制功能，高真空系统采用高压强，耐冲击分子泵，防止意外漏气造

成分子泵损坏，延长系统使用寿命。

4 、(电动)滑动系统采用温度控制器自动控制炉体移动，等程序完成，炉体按设定的速度滑动，因有滑动限

位功能炉体不会发生碰撞，待样品露出炉体后，通过风冷系统快速降温。

气体流量，实时查看各路气体流量曲线

5、 每条气路均设置高压截止阀，方便切断气路
 

技术参数：

1、 气体通路：X条客户自由定制

2、 气体类型：客户自由选择

3、 流量计量程：5—500SCCM；1—10SLM自由选择

4、 工作电压：220v/50Hz

5、 工作压差：0.1-0.5MPa

6、 额定压力：3MPa

7、 准确度：±1.0%F.S

8、 质子流量计相应时间：＜1S

9、 测量范围：0.1-0.15MPa

10、混气罐：304不锈钢

11、进出气接口：直径6mm不锈钢卡套接口

12、管道：内部管道采用直径6mm不锈钢管；外部管采用6mm聚四氟管

13、控制系统：PLC控制系统，液晶触摸屏输入，每路气路立控制